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【要約】　より容易に製造可能であり、かつ、設計自由度も向上させることができるナノファイバーフォトニック結晶を提供する

【特許請求の範囲】
【請求項１】
　表面に光透過性を有する凹凸構造体が形成された光学的機能部材と、伝搬光の波長以下の径を有する光導波路部を有し、前記凹凸構造体上に配置され、かつ、前記光導波路部に光が伝搬した際に生成される近接場と前記凹凸構造体の一部とが重なるような位置に配置されたナノ光ファイバーとを備えるナノファイバーフォトニック結晶。
【請求項２】
　前記凹凸構造体が、所定周期のグレーティングであり、前記グレーティングを構成する凸部の延在方向が、前記光導波路部の延在方向と直交する請求項１に記載のナノファイバーフォトニック結晶。
【請求項３】
　前記凹凸構造体が、ポリマーで形成されている請求項１又は２に記載のナノファイバーフォトニック結晶。
【請求項４】
　前記ナノ光ファイバーが、コア及びクラッドを含む光ファイバー部と、前記光導波路部及び前記光ファイバー部間を接続し、径が前記光導波路部から前記光ファイバー部に向かって連続的に大きくなる接続部とを有する請求項１～３のいずれか一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶。
【請求項５】
　前記ナノ光ファイバーが、前記光導波路部の表面にポリマーで形成されたコーティング層を有する請求項１～４のいずれか一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶。

【要約】　より高精度にかつより簡易に屈折率が所定パターンで変化するナノ構造体をナノ光ファイバーの表面に形成する。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
　レーザー光源からレーザー光を射出することと、前記レーザー光を分光素子で回折して、＋１次の回折光及び－１次の回折光を抽出することと、前記抽出された＋１次の回折光及び－１次の回折光を、それぞれ第１光学系及び第２光学系を介してナノ光ファイバーの所定領域に導いて集光し、該所定領域に光の干渉縞を生成することと、前記ナノ光ファイバーの所定領域に集光された光を、前記ナノ光ファイバーのレンズ効果によりさらに集光して、前記ナノ光ファイバーに凹部を形成することとを含むナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項２】
　前記凹部が、ナノ光ファイバーの光照射側とは反対側の面に形成される請求項１に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項３】
　前記ナノ光ファイバーの延在方向に沿って、前記ナノ光ファイバーの所定領域に光の干渉縞を生成して、複数の前記凹部を形成する請求項１又は２に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項４】
　前記レーザー光が、パルスレーザー光である　請求項１～３のいずれかい一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項５】
　前記レーザー光源が、フェムト秒パルスレーザーである請求項１～４のいずれか一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項６】
　前記分光素子が、位相マスクである　請求項１～５のいずれか一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項７】
　前記第１光学系及び前記第２光学系がともに、反射ミラーで構成される請求項１～６のいずれか一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項８】
　前記ナノ光ファイバーの所定領域の径が、該所定領域を伝搬する光の波長以下の値である請求項１～７のいずれか一項に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造方法。
【請求項９】
　レーザー光源と、前記レーザー光源から射出されたレーザー光をナノ光ファイバーの所定領域に集光する集光レンズと、前記ナノ光ファイバーの所定領域及び前記集光レンズ間に設けられ、前記集光レンズを介して入射されたレーザー光を回折して、＋１次の回折光及び－１次の回折光を抽出する分光素子と、　前記ナノ光ファイバーの所定領域及び前記分光素子間に設けられ、前記分光素子で抽出された＋１次の回折光を前記ナノ光ファイバーの所定領域に導く第１光学系と、　前記ナノ光ファイバーの所定領域及び前記分光素子間に設けられ、前記分光素子で抽出された－１次の回折光を前記ナノ光ファイバーの所定領域に導く第２光学系とを備えるナノファイバーフォトニック結晶の製造装置。
【請求項１０】
　さらに、前記ナノ光ファイバーの所定領域及び前記位相マスク間の領域において、前記ナノ光ファイバーの所定領域の真上に設けられ、かつ、前記位相マスクで前記レーザー光を回折した際に生成される０次の回折光が前記ナノ光ファイバーの所定領域の照射されることを防止するような位置に設けられた遮蔽板を備える請求項９に記載のナノファイバーフォトニック結晶の製造装置。

【要約】
ユーザが、接触面の軟らかさを感じ取りながら、接触面に対する多様な３次元的加工をできるようにする。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
　軟らかい膜材でなりかつユーザによってその表面に対して３次元的加工がなされる接触面部材を含む筐体と、上記筐体によって閉塞された領域内に封止された、多数の軟らかさ調整用粒子を含む軟らかさ調整部材と、封止状態にある上記軟らかさ調整用粒子の相互間の接触圧の強弱に従って当該接触圧が変化することにより上記軟らかさ調整部材の軟らかさが変化することを利用して、上記軟らかさ調整用粒子相互間の上記接触圧を制御することにより、上記接触面部材の軟らかさを調整する軟らかさ制御手段とを具えることを特徴とするユーザインタフェース装置。
【請求項２】
　上記軟らかさ制御部は、ユーザによる上記軟らかさ調整部材の軟らかさの指定に応じて、上記閉塞された上記筐体内の圧力を制御することにより上記接触面部材の表面に軟らかさの触感を与えることを特徴とする請求項１に記載のユーザインタフェース装置。
【請求項３】
　上記接触面部材の表面に対する接触による入力操作を受け付ける触覚入力受付部をさらに具えることを特徴とする請求項１または２に記載のユーザインタフェース装置。
【請求項４】
　上記接触面部材に画像を表示させる表示制御部をさらに具えることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のユーザインタフェース装置。
【請求項５】
　上記接触面部材の表面の凹凸形状を表すデータを取得する表面凹凸取得手段をさらに具えることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のユーザインタフェース装置。
【請求項６】
　上記軟らかさ制御部は、ユーザによる上記軟らかさ調整部材の軟らかさの変化の指定に応じて、当該指定された軟らかさの変化態様に従って上記筐体内の圧力の変化を制御することにより、上記接触面部材の表面に軟らかさの変化の触感を与えることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のユーザインタフェース装置。
【請求項７】
　上記軟らかさ制御部は、上記軟らかさ調整用粒子相互間の上記接触圧を制御することにより、上記軟らかさ調整部材の上記接触面部材の軟らかさを、「粉状」の成形不可状態、又は「粘土状」の変形可能状態、又は硬化した変形不可状態に調整する　ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載のユーザインタフェース装置。
【請求項８】
　ユーザが上記接触面部材の表面上に描画ペンを用いて行った入力内容を検出するペン描画状態検出部材を、上記軟らかさ調整部材を挟んで上記接触面部材と対向する側に　具えることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載のユーザインタフェース装置。