発明の名称 | レーザー装置 |
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技術分野 | ものづくり, ナノテクノロジー |
出願日 | 平成27年5月7日 |
出願番号 | 特願2016-518246 |
公開番号 | WO2015/170780 |
登録番号 | |
出願人 | 国立大学法人電気通信大学 |
発明者 | 桂川 眞幸 |
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概要 | 【要約】 複雑な構成を用いることなく、レーザー光と媒質の相互作用における線形及び非線形の光学特性を操作できるとともに、高出力且つ高ビーム品質の長波長域、及び、短波長域のレーザー光を長期間照射できる、(線形及び非線形)光学過程の操作方法及びレーザー装置を提供する。 一又は複数の周波数の入射レーザー光を用いた線形及び非線形の光学過程において、発生レーザー光を含む該光学過程に関与する全てのレーザー光の異なる周波数間の相対位相を所望の値に操作することで、目的とする光学過程を実現することを特徴とする。 【特許請求の範囲】 【請求項1】 一つ又は複数の光源から発生した、一つ又は複数の周波数からなる入射レーザー光を、非線形光学媒質を透過させて出射させるレーザー装置であって、前記非線形光学媒質は、該光学媒質の内部に透明な分散媒質を1つ以上有し、該分散媒質は、発生レーザー光を含む該光学過程に関与する複数のレーザー光の異なる周波数間の相対位相関係が所望の値を近似的に満たすように求められる実効的厚みを備えて前記入射レーザー光の伝搬方向に沿った位置に配置されることを特徴とするレーザー装置。 (以下省略) |
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